1 機械拋光

　　機械拋光（guāng）是靠切削、材料表麵塑性變形去掉被拋光後的凸部而得到平（píng）滑麵的拋光方法，一般使用（yòng）油（yóu）石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作為主，特（tè）殊零件（jiàn）如回轉體表（biǎo）麵，可（kě）使用轉台等輔助工具，表麵質（zhì）量 要求高的（de）可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用特製的磨具，在含有磨（mó）料的研（yán）拋液中，緊（jǐn）壓在工件被加工表麵（miàn）上，作高速（sù）旋轉運動。利用（yòng）該技術可以達到 Ra0.008 μ m 的表麵粗（cū）糙（cāo）度，是各種拋光方法中最高的。光學鏡片模具常采用這種方法。

　　2 化學拋光

　　化學拋光是讓材料在化學介質中表麵（miàn）微觀凸（tū）出的部分較凹部分優先溶解，從（cóng）而（ér）得到（dào）平滑麵。這種方法的主要優點是不需複雜設備，可以拋光形狀（zhuàng）複（fù）雜的（de）工件，可以同時拋光（guāng）很多工件，效率高。化學拋（pāo）光的核心問題是拋光液的配製。化學拋光得到的表麵粗糙度一般為數 10 μ m 。

　　3 電解拋光

　　電解拋光（guāng）基本原理與化學拋光相同，即（jí）靠選擇性的溶解材（cái）料表麵微小凸出部分，使表麵光滑。與化（huà）學拋光相比，可（kě）以消除陰極反應的影響，效果較好。電（diàn）化學拋光過程分（fèn）為（wéi）兩步：

　　（ 1 ）宏觀整平 溶解產物向電（diàn）解液中擴散，材（cái）料（liào）表麵幾何粗糙下降， Ra ＞ 1 μ m 。

　　（ 2 ）微光平整 陽極極化，表麵光亮度提高， Ra ＜ 1 μ m 。

　　4 超聲波拋光

　　將工件（jiàn）放（fàng）入磨料懸浮液中並一起置於超（chāo）聲波場中，依靠超聲波的振蕩作用，使（shǐ）磨料在工件表麵磨削拋光。超聲波加（jiā）工宏觀力小，不會引起工件變形，但工裝製作和安裝較困難。超聲波加（jiā）工（gōng）可以（yǐ）與化學或電化學方法結（jié）合。在溶液腐（fǔ）蝕（shí）、電（diàn）解的基礎上，再施加超聲波振動攪拌（bàn）溶液，使工件表麵溶解產（chǎn）物脫離，表麵附近的（de）腐蝕或電解質均勻；超聲波在（zài）液體中的空化作用還能夠（gòu）抑製腐蝕過程，利（lì）於表麵光亮化。

　　5 流體拋光

　　流體拋光是依靠高速流動的液體及其攜（xié）帶的磨粒衝刷工件表（biǎo）麵達到拋光的目的。常用方法有：磨料噴射加工、液（yè）體噴射加工（gōng）、流體動力研磨（mó）等（děng）。流（liú）體動力（lì）研（yán）磨是（shì）由液壓驅（qū）動，使攜帶（dài）磨粒的液體介質高速往（wǎng）複流過工件表麵。介（jiè）質主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物（聚合物狀物（wù）質（zhì））並摻上磨料製成，磨料可采（cǎi）用碳化矽粉末。

　　6 磁研磨拋光（guāng）

　　磁研磨拋光機是利用磁性磨料在磁場（chǎng）作用下形成磨（mó）料刷，對工件（jiàn）磨削加工。這種方法加（jiā）工效率高，質量好，加（jiā）工條件容易控（kòng）製，工作條件好。采用合適的磨（mó）料，表麵粗糙度可（kě）以達到 Ra0.1 μ m 。

　　在塑料模具加工中所說的拋光與其他行業中所要求的表麵拋光有很大的不同，嚴格來說，模具（jù）的拋光應該稱為鏡麵加工。它不僅對拋光本身有很高的要求（qiú）並且對表麵平整度、光滑度以及幾何精確度也有很高的（de）標（biāo）準。表麵拋光一般隻要求獲得光亮的表麵即（jí）可。鏡麵加工的標（biāo）準分（fèn）為四級： AO=Ra0.008 μ m ， A1=Ra0.016 μ m ， A3=Ra0.032 μ m ， A4=Ra0.063 μ m ，由於電解拋（pāo）光、流體拋光等方法很（hěn）難精確控製零件（jiàn）的幾何精確度，而化學拋光、超聲波拋光、磁研磨拋光等方法的表麵質（zhì）量又達不到要求，所以精密模具的鏡（jìng）麵加工還是以機械拋（pāo）光為主。